什么是半電波暗室和全電波暗室
1、半電波暗室(Semi Anechoic Chamber):
地面為金屬反射面,其余各面均安裝有吸波材料的屏蔽室,吸波材料鋪設(shè)面積可根據(jù)吸波材料的性能進(jìn)行調(diào)整。半電波暗室主要是用來替代開闊場地,它的主要作用是進(jìn)行電磁兼容領(lǐng)域輻射發(fā)射和輻射敏感度的測試。衡量半電波暗室性能的主要指標(biāo)有5 個,分別是:屏蔽效能、場地電壓駐波比(SVSWR)、歸一化場地衰減(NSA)、場地均勻性(FU)、背景噪聲。
2、全電波暗室(Fully Anechoic Chamber)
將吸波材料鋪設(shè)在暗室內(nèi)每一個表面,且是滿鋪的方式,全電波暗室完全摒棄了平面大地干涉原理,它的環(huán)境與電磁波在自由空間中的傳播環(huán)境一致。主要進(jìn)行微波測試和天線參數(shù)的標(biāo)定及檢測。它的性能指標(biāo)有:靜區(qū)尺寸大小、反射電平(靜度)、固有雷達(dá)截面、交叉極化度等參數(shù)表示。